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離子除臭(chòu)裝置

離子除臭裝置
離子除臭裝置是利用(yòng)這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的汙染物作(zuò)用,使汙染物分子在短(duǎn)的時間內發(fā)生分解,以達到降解汙染物的目的的一種環保設備。
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  • 產品概述
  • 技術(shù)原理
  • 性能優勢
  • 適用範圍

產品概述 Product description

產品概述

離子除臭裝置(zhì)是利用這些高能電(diàn)子、自(zì)由基等活性粒子和廢(fèi)氣(qì)中的汙染(rǎn)物作用,使汙染物分子在短的(de)時間內發生(shēng)分解(jiě),以達到降解汙染物的目的的一種環保設備。




技術原理 technology principle

產品概述

  首先廢氣經均流板過濾棉進入設備時,由設備高壓穩(wěn)定高(gāo)頻放電,瞬間產生1.5萬伏特(tè)至2萬伏特高壓,擊穿廢(fèi)氣。此(cǐ)階段中(zhōng),長鏈、多鏈廢(fèi)氣分(fèn)子由於鍵能較弱,約(yuē)束力較小。很容易被擊(jī)穿化學鍵破裂,從而變(biàn)成小分子化合物(wù),此為第(dì)一階段(duàn)淨化。

其(qí)次,隨廢氣進入設備的水分子、氧分子被(bèi)高壓擊穿斷裂,生(shēng)成強氧化基團羥基、臭氧分(fèn)子等。這些強氧化基團與廢氣分子(zǐ)充分接觸氧化,加快(kuài)反應進程。整個反應幹淨,能量利用率高,淨化效率非常高。

等離子功能段可以激發汙染物能量,促使長鏈、多鏈汙染物分子的分子(zǐ)鍵斷裂重組,使難處理的汙染(rǎn)物(wù)降解為較易(yì)處(chù)理的低碳汙染物。








等離子(zǐ)體化學反應過程 Plasma chemical reaction process 

產品概述

從等(děng)離子體反應過程可以看出(chū),電子先從電(diàn)場獲(huò)得能量,通過激發或電離將(jiāng)能量轉移到汙染物分子中去,那些獲(huò)得能量的汙染物分子被激發,同時有部分分(fèn)子被電離,從而成為活性基團。然後這些(xiē)活性基團與氧氣、活性基團與(yǔ)活性基團之(zhī)間相互碰(pèng)撞後生成穩定產物和(hé)熱(rè)。

另外,高能電子(zǐ)也能被鹵素(sù)和氧氣等電子親和力較強的物質俘獲,成為負離子。這類負(fù)離子具有很好的(de)化學活性,在化學反應中起著重要的作用。






性能優勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻擋放電產生的低溫等離子體中,電子能(néng)量高,幾乎可以和(hé)所有的惡臭(chòu)氣體分(fèn)子作用;

  • 02

    反應快,不受氣速限製(zhì),氣阻小,工藝成熟;

  • 03

    采用防腐蝕材料,電極與廢氣不直接接觸,根本上解決了設(shè)備腐蝕問題;

  • 04

    隻需用電,操作簡單,無需派專職人員看守,基本不占用人工費;

  • 05

    設備(bèi)啟動、停(tíng)止十分迅速,隨用隨開,不受氣溫的(de)影響。

適用範圍 Scope of application

垃圾、汙水廠等市政設(shè)施(shī),以及製藥(yào)廠、油漆廠、塗料(liào)廠、皮革廠、石油化工、農藥廠、製藥廠、印刷廠、造紙(zhǐ)廠(chǎng)、飼料加工廠等等工業場所。

UV光解廢氣淨化設備適用範圍

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