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低溫等離子除臭設備

低(dī)溫等離子除臭(chòu)設備

低溫等(děng)離子除臭設備是利用這(zhè)些高能電子、自由基等活性粒子(zǐ)和廢氣中的汙染物作(zuò)用,使汙(wū)染物分(fèn)子在短(duǎn)的時間(jiān)內發生分解(jiě),以達到降解汙染物的目的的一種環保設備。

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  • 產品(pǐn)概述(shù)
  • 技術原理
  • 性能優勢
  • 適用範圍

產品概述 Product description

產品概述

低溫等離子除臭設備是利用這(zhè)些高能電(diàn)子(zǐ)、自由基等活性粒子和廢氣中的(de)汙染物作用,使汙染物分子在(zài)短的時間內發生分解,以達到降解汙染物的目的的(de)一種環保設備。



技術原理 technology principle

產品概述

  首先廢(fèi)氣經均流板過濾棉進入設備時,由設備高壓穩定(dìng)高頻放電,瞬間產生1.5萬伏特至2萬伏特高壓(yā),擊穿(chuān)廢氣。此階段(duàn)中,長鏈、多鏈廢氣分子由於鍵能較弱,約束力較小(xiǎo)。很容易被擊穿化學鍵破裂,從(cóng)而變成小分子化合物,此為第一階段淨化。

其次,隨(suí)廢氣進入設備的水分子、氧分子(zǐ)被高壓擊穿斷裂,生成強氧化基團羥基、臭氧分(fèn)子等。這些強氧化基團與廢氣分子充分接觸氧(yǎng)化,加(jiā)快反應進程。整個反應幹淨,能量(liàng)利用率高,淨化效率非常高。

等離子功能段可以激發汙染物能量,促使長鏈、多鏈汙染物分子的分子(zǐ)鍵斷裂重組,使難(nán)處理(lǐ)的汙染物降(jiàng)解為(wéi)較易處理的低碳汙染物。








等(děng)離子體化(huà)學反應過程 Plasma chemical reaction process 

產品概述

從等離子體反應過程可以看出,電子先(xiān)從電(diàn)場獲得能量,通過激發或(huò)電離將能量轉(zhuǎn)移到汙染物分子中去(qù),那些獲得(dé)能量的汙染物分子被激發,同時有部分分子被電離,從而成為活性基團。然後這些活性基團與氧氣、活性基團與活性基團之間相互碰撞後生成穩定(dìng)產物和熱。

另外,高能電子也能被鹵素和氧氣等電子親和力(lì)較強的物質俘獲(huò),成為負離子。這類負離子具(jù)有很好(hǎo)的化(huà)學活性(xìng),在化學反應中起著重要(yào)的作用(yòng)。






性能優勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻擋放電產生的低溫等離子體中,電子能量高,幾乎可以和(hé)所有的惡臭氣體分子作用;

  • 02

    反應(yīng)快,不受(shòu)氣速限製,氣阻小,工藝成熟;

  • 03

    采用防腐蝕材料,電極與廢氣不直接接觸,根本上(shàng)解決了設備腐蝕問題;

  • 04

    隻需用電,操作簡單,無需派專職人員看守(shǒu),基本(běn)不占用人工費;

  • 05

    設備啟動(dòng)、停止十分迅速,隨用隨開,不受氣溫的影(yǐng)響。

適用範(fàn)圍 Scope of application

垃圾、汙水(shuǐ)廠等市政設施,以及製藥廠、油漆廠、塗(tú)料廠、皮革廠(chǎng)、石油化工、農藥廠、製藥廠、印刷廠、造紙廠、飼料加工廠等等工業場(chǎng)所。

UV光解廢氣淨化設備適用範圍

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