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熱搜關鍵詞: 沸石轉輪吸附(fù)濃縮設備 RTO蓄熱(rè)式焚燒設備 UV光解(jiě)淨化設備

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等離子除臭裝(zhuāng)置

等離子除臭裝置
等離子除臭裝置是利用這些高能電子(zǐ)、自由基等活(huó)性粒子和廢氣中的汙染物作用,使汙染物分子在短(duǎn)的時(shí)間內發生分解,以達到降解汙染物的目的的一種環保設(shè)備。
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  • 產品概述
  • 技術原(yuán)理
  • 性能優勢
  • 適用範圍

產品概述(shù) Product description

產品概述(shù)

等離子(zǐ)除臭裝(zhuāng)置是利用這些高能(néng)電子(zǐ)、自由基等活性粒子和廢氣中的汙染物作用,使汙染物分子(zǐ)在短的時間內發生分解,以達到降解汙(wū)染物的目的的一種環(huán)保設備。




技術原理 technology principle

產(chǎn)品概述

  首先廢氣經均流板過濾棉進入設備時,由設備高壓穩定高頻放電,瞬間產生1.5萬伏特至(zhì)2萬伏特高壓,擊穿廢氣。此階段中,長鏈、多鏈廢氣分子(zǐ)由於(yú)鍵(jiàn)能較弱,約束(shù)力較(jiào)小。很容易被擊穿化學鍵破裂,從而變成小分子化合物,此為第一階段淨化。

其次,隨廢氣進入設備的水分子、氧分子被高(gāo)壓擊穿斷裂,生成強氧化基團羥基、臭氧分子等。這(zhè)些強氧(yǎng)化基團與廢氣分子(zǐ)充分接觸氧化,加快反應進程(chéng)。整個反應幹淨,能量利用率高,淨化效率非(fēi)常高。

等離子功(gōng)能段可(kě)以激發汙染物能量,促使長鏈、多鏈汙染物分(fèn)子(zǐ)的分子鍵(jiàn)斷裂重組,使難處理的汙染(rǎn)物降解為較易處理的低碳汙染(rǎn)物。








等離子體化學反應過程 Plasma chemical reaction process 

產品概述

從等離子體反應過程可以看出,電(diàn)子(zǐ)先(xiān)從電場獲得能量(liàng),通過(guò)激發或電離將能量轉移到汙染物分子中去,那些獲得能量的汙染物分子被激發,同時(shí)有部分分子被(bèi)電離,從而成(chéng)為活性基團。然後這些(xiē)活(huó)性基團與氧氣、活性基團與活性基團之間(jiān)相互(hù)碰撞後生成穩定產物和熱。

另外,高能電子也能被(bèi)鹵素(sù)和氧氣等電子親和力較強的物(wù)質俘獲(huò),成為負離子。這類負離子具有很好(hǎo)的化學活性,在化學反應中起著重要的作用。






性能優勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻擋放電產生的低溫等離子體中,電子能量高(gāo),幾乎可(kě)以和所有(yǒu)的惡臭氣體分子作用;

  • 02

    反應快(kuài),不受氣速(sù)限製,氣阻小,工藝成熟;

  • 03

    采用防腐(fǔ)蝕材料,電極與廢氣不直接接觸,根本上解決了設備腐蝕(shí)問題;

  • 04

    隻需用電,操作簡單,無需派專職人員看守,基本不占用人工費;

  • 05

    設備啟動、停止(zhǐ)十分(fèn)迅速,隨用隨開,不受氣(qì)溫的影(yǐng)響。

適用範(fàn)圍 Scope of application

垃圾、汙水廠等市政設施,以及(jí)製藥廠、油漆廠、塗(tú)料廠、皮革廠、石油化工、農(nóng)藥廠(chǎng)、製藥廠、印刷廠、造紙廠、飼料加工(gōng)廠等等工業場所。

UV光解廢氣淨化設(shè)備適用範圍

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