1.芯片廠酸性廢氣（qì）概述

隨著科技進度，我國芯片製造（zào）行業飛速發展，行業（yè）技術日新月異（yì），產品（pǐn）規模持續走（zǒu）高。芯片在製造工藝中（zhōng）使用各（gè）種酸液清洗、刻（kè）蝕芯片等過程中產生HF、HCl、硫酸霧等酸性（xìng）氣（qì）體。對於芯片（piàn）廠企業在生產工藝過程中產生的腐（fǔ）蝕性氣體（如酸、堿（jiǎn）性（xìng）廢氣）的治理，目前大多企業采用液體吸收法（fǎ）治理，采用液體吸收法治理該廢氣，關鍵在於廢氣淨化設備的（de）選擇。酸性廢氣治理通常采用（yòng）噴淋塔，通過酸（suān）堿中和反（fǎn）應來淨化酸（suān）性氣體（tǐ）。

2.噴淋塔工作原理

噴淋塔淨化原理是將氣體中的汙染物質分離出來，轉化為無害物質（zhì），以達（dá）到淨化氣體的目的。它（tā）屬於微分接觸逆流式，塔體內的填料是氣液兩相接（jiē）觸的（de）基本構件，塔體（tǐ）外部的氣體進入塔體後，氣體進入（rù）填料層，填料層上有來自於頂部噴淋液體及前麵的（de）噴淋液（yè）體，並在填料上形（xíng）成一層液膜，氣體流經填料（liào）空隙時，與填料液膜接觸並進行吸收或綜合反（fǎn）應，填料層能提供足夠大的表麵積，對氣（qì）體流動又不致於造成過大（dà）的阻力，經吸收（shōu）或綜合後（hòu）的氣體經除霧器收集後，經出風口排出塔外。

3.芯片廠廢氣處理（lǐ）工藝說明

生產車間酸（suān）洗池酸霧廢氣經風罩收集，經管道再進（jìn）入酸性廢（fèi）氣淨化設（shè）備，酸霧淨化塔體放置二層填料層並配置二級水浴裝置，並在循環水池內（nèi）加氫氧化鈉（簡稱堿），以中和廢氣中的酸霧，酸霧處理塔的上端（duān）噴頭噴出吸收液均勻分布在填料上，廢氣與吸收液在填（tián）料表麵（miàn）上充分接觸，由於（yú）填料的機械強度大、耐腐蝕、空隙率高、表（biǎo）麵大的特點，廢氣與吸收液在（zài）填料表麵有較多的接（jiē）觸麵積和反（fǎn）應（yīng）時間。淨化後的氣體會飽含水份經過（guò）塔頂的除霧裝置去除水份後直接排放（fàng）大氣（qì）中。

4.噴淋塔應用範圍

酸性（xìng）廢氣淨化設（shè）備廣泛用於電（diàn）子、化工、電鍍、五金、製藥、印染、半導體製造等行業中產生的有害廢氣，如：鹽酸（HCI)、氟化氫氣（qì）體（HF）、氨氣（NH3）、硫酸霧（H2SO4)、鉻酸霧（CrO3)、氫氰酸（suān）氣體（HCN)、堿蒸汽（qì）（NaOH)、硫化氫氣體（H2S)、福爾馬林（HCHO）等水溶性氣體。