1.UV光（guāng）解廢氣處理器簡述

UV光（guāng）解廢（fèi）氣處理器是指利用高能UV紫（zǐ）外線光束分解空氣中的氧分子產生（shēng）遊離氧（即活性氧（yǎng）），因遊離氧所攜帶正負電子不平衡所以需與（yǔ）氧分子結合，進（jìn）而產（chǎn）生（shēng）臭氧，臭氧具有很強的氧化性，通過臭氧（yǎng）對有機廢氣、惡臭氣體進行協同（tóng）光解氧化作用，使有機廢氣、惡臭氣體物質降解轉化成低分子化合物、水和二氧化（huà）碳。

2.UV光解廢氣處理技術原理

（1）利用特製的高能UV紫外線光束照射惡臭氣（qì）體，改變惡臭氣體如：氨、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲（jiǎ）二硫、二硫化碳和苯（běn）乙烯，硫化物H2S、VOC類，苯、甲苯、二甲苯的分子鏈結構，使有（yǒu）機或無機高分子惡臭化合物分（fèn）子鏈，在高能紫外線光束照（zhào）射（shè）下，降解轉變成低分子化合物，如CO2、H2O等。

（2）利用高能UV紫外線光束（shù）分解空氣（qì）中的氧分子產生遊離氧，即活性氧，因遊離氧所攜帶正負電子不平衡所以（yǐ）需與氧分子結合（hé），進而產生臭氧。UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),臭氧對有機物具有很強的氧（yǎng）化作用，對惡臭氣體及其它刺激性（xìng）異味有立（lì）竿見影的清除效果。

（3）有（yǒu）機廢氣、惡臭氣體利用排風設備輸入到UV光解廢氣淨化（huà）設備後，UV光解廢氣淨化設備運用（yòng）高能UV紫外線光束及臭氧對（duì）惡臭氣體進行協同分解氧化反應，使惡臭氣體物質其降解轉化成低（dī）分子化合物（wù）、水和（hé）二氧化碳，再通過排風管道排出室外。

（4）利用高能（néng）UV光束裂解惡臭氣（qì）體中細菌的分子（zǐ）鍵，破壞細菌的（de）核酸(DNA)，再通過（guò）臭氧進行氧化反應，徹底達到（dào）有效脫臭及殺滅細菌的目的。

3.UV光解廢氣（qì）處理器優勢

（1）高效除惡臭：能高效去除揮發性有機物(VOC)、無機物、硫化氫、氨氣、硫醇類等（děng）主要汙（wū）染物，以及各種惡臭味氣體，脫臭效率可達到95%以（yǐ）上，脫臭效果超（chāo）過國家1993年頒布的（de）惡臭汙染物排放標準(GB14554-93)和1996年頒布的《大氣汙染物綜合排放標準》(GB16297-1996)。

無需預處理：有機氣體無需進行特殊的預處（chù）理，如加溫、加濕等,設備工作環境溫度在（zài）-30℃－95℃之間，濕度在30%－98%、PH值（zhí）在（zài）2-11範圍均可正常工（gōng）作。

（2）無（wú）需（xū）添加任何物質：隻需要設置相（xiàng）應的排風管道（dào）和排風動力，使惡（è）臭氣體以及工業廢氣通過UV光解廢（fèi）氣淨化設備進行脫臭分解淨化，無需添加任何物質參與化學反應。

（3）適應性強：可適（shì）應中低濃度（dù），不同工業（yè）廢氣物質的（de）脫臭、淨化處理，可每天24小時連續工作，運行穩定可靠。

（4）運行成（chéng）本低：無任何（hé）機械（xiè）動作，無噪音，無需專人管理和日常維護，隻需作定期檢查，設備能耗低，設備風阻低<50pa,可節（jiē）約大量排風動力能耗。

（5）安全（quán）可靠：因采用光解（jiě）原理，模塊采取隔爆處理，消除了安全隱患，防火、防爆、防（fáng）腐蝕性能（néng）高，設備性能安全穩定，特別適用於采油(氣)田、石油化工、製藥等防爆要求高的（de）行業。

4.UV光解廢氣處理器應用範圍

印刷（shuā）、印染、電子、塑料、塗料、噴塗、家具、橡膠（jiāo）、化工、造紙、皮革、製藥、食品加工（gōng）、飼料、屠宰、汙（wū）水處理、垃圾分揀及（jí）中轉等行業及領域的惡臭氣體、工業廢氣的淨化處理。