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低溫等離子除臭設備

低溫(wēn)等離子除臭設備

低溫等離子除(chú)臭(chòu)設備是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的汙染物作用(yòng),使汙染物分子在短的時間內發生分解,以(yǐ)達到降解汙(wū)染物的目的的一種環(huán)保設備。

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  • 產品概述
  • 技術原理
  • 性能優勢
  • 適用範圍

產品概述 Product description

產品概述(shù)

低溫等離子除臭設(shè)備是利用這些高能電子、自(zì)由基等活性粒子和廢氣中的汙染物作用,使汙染物分(fèn)子在短的時間內發生分解,以達到降解(jiě)汙染物的(de)目的的一種環保設備。



技術原理 technology principle

產品概述

  首先(xiān)廢氣經(jīng)均流板過濾棉進入設備時,由設備高壓穩定高頻放電,瞬間產生1.5萬伏特至2萬伏特(tè)高壓,擊穿廢氣。此階段中,長鏈、多鏈廢氣(qì)分子由於鍵能較弱,約(yuē)束力較小。很容易被擊穿(chuān)化學鍵破(pò)裂(liè),從而變(biàn)成小分子(zǐ)化合物,此為(wéi)第一階(jiē)段淨化。

其次,隨廢氣進入設備的水分子(zǐ)、氧(yǎng)分子被高壓擊穿斷裂,生(shēng)成強氧化基團羥基、臭氧分子等。這些強氧化基團與廢氣分子充分接(jiē)觸(chù)氧化,加快反應進程。整個反應幹淨,能量(liàng)利用率高,淨化效率非常高。

等離子功能段可以激發汙染物能量,促使長鏈、多鏈汙染物分子的分子鍵斷裂重(chóng)組,使難處理的汙染(rǎn)物降解為較易處理(lǐ)的低碳汙染(rǎn)物。








等離子體化學反應過程 Plasma chemical reaction process 

產品概述(shù)

從等離子體反應過程可以看出,電子先從電場獲得能量,通過激發或電離將能量轉移(yí)到(dào)汙染物分子中去,那些獲得能量的汙(wū)染物分子被激發,同時有部分分子被電離,從(cóng)而成為活性基團。然後(hòu)這些活性基團與氧氣、活性基(jī)團與活性基團之間相互碰撞(zhuàng)後生成穩定產物和熱。

另外,高能電(diàn)子也能被鹵(lǔ)素和氧氣等電子親和力較強的物(wù)質俘獲,成為負離子。這類負離子具有很好的化學(xué)活性,在化學(xué)反(fǎn)應中起著(zhe)重要的作(zuò)用。






性能優勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻擋(dǎng)放電產生的低溫等離子體中(zhōng),電子能量高,幾乎可以和所有(yǒu)的(de)惡臭氣體分子作用;

  • 02

    反應(yīng)快,不受氣速限製(zhì),氣阻小,工藝成熟;

  • 03

    采用防(fáng)腐蝕(shí)材料,電極與廢氣不(bú)直接接(jiē)觸,根本(běn)上解決了設(shè)備腐蝕問題;

  • 04

    隻需用(yòng)電,操作簡單,無需派專職(zhí)人員看守,基本不占用人工費;

  • 05

    設備啟動、停止十分迅(xùn)速,隨用隨開,不受氣溫的影響(xiǎng)。

適用範圍 Scope of application

垃圾、汙水廠(chǎng)等市政設施,以及製藥廠、油漆廠、塗料廠、皮革(gé)廠、石油化工、農(nóng)藥廠、製藥廠、印刷廠、造紙廠、飼(sì)料加工(gōng)廠等等工業場所。

UV光解廢氣淨化設備(bèi)適用範圍

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