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離(lí)子除臭裝置

離子除臭(chòu)裝置

離(lí)子除臭裝(zhuāng)置是利用這些高能(néng)電(diàn)子(zǐ)、自由基等活性(xìng)粒子和(hé)廢氣中(zhōng)的汙染物作用,使汙(wū)染物分子在短的時間內發生分解,以達到降(jiàng)解汙染物的目的的一種環保設備。
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  • 產品概述
  • 技術原理
  • 性能優勢
  • 適用範圍

產品概述 Product description

產品概述

離子(zǐ)除臭裝置是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的汙染物(wù)作用,使汙染物分子在短的時間內發生分解,以達到(dào)降解汙染物的目的的一種環保設備。




技術(shù)原理 technology principle

產品(pǐn)概述(shù)

  首先廢氣經均流板過濾棉進入設備時(shí),由設備高壓穩定高頻放電(diàn),瞬間產生1.5萬伏特至(zhì)2萬伏特高壓,擊穿廢氣。此階(jiē)段中(zhōng),長鏈、多鏈廢氣分子由於鍵能(néng)較弱,約束力(lì)較小。很容易被擊穿化學鍵破裂,從而變成小(xiǎo)分子化合物,此為第(dì)一階段淨化。

其次,隨廢氣進入設備的水分子、氧分子被高壓擊穿斷裂,生成強氧化基(jī)團羥基、臭(chòu)氧(yǎng)分子等。這些強氧化基團與廢氣分子充分接觸氧化,加快反應進程。整個反應幹(gàn)淨,能量利用率高,淨化效率非常高。

等離子功能段可以激發汙染物能量,促使長鏈、多鏈汙染(rǎn)物分子的分子鍵斷裂重組,使難處理的汙(wū)染物降解為(wéi)較(jiào)易處理的低碳汙染物。








等離(lí)子體化學反應過程 Plasma chemical reaction process 

產品概述

從等(děng)離(lí)子體反應過程可以看出,電子先從電場獲得能(néng)量,通過激(jī)發或電離將(jiāng)能量轉移到汙(wū)染(rǎn)物分子中去,那些獲得能量的汙染物分子被激發,同時有部分分子被電離,從而成為活性基團。然後這些活性基團與(yǔ)氧氣、活性基團與活(huó)性基團之間相互碰(pèng)撞後生成穩定產物和熱。

另外(wài),高能電子也能被(bèi)鹵素和氧(yǎng)氣等電子親和(hé)力較強的(de)物質俘獲(huò),成為負離子。這類負離子具有很好的化學活性,在化學反應(yīng)中起著重要的作用。






性能優勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻擋(dǎng)放電產生的低溫等(děng)離子體中,電子能量高,幾乎(hū)可以和(hé)所有的惡臭(chòu)氣體分子作用;

  • 02

    反應快,不受(shòu)氣速限製,氣(qì)阻小,工藝成熟(shú);

  • 03

    采用防腐蝕材料,電極與廢氣不直接接觸,根本上解決了設備腐蝕問題;

  • 04

    隻需用電,操(cāo)作(zuò)簡(jiǎn)單,無需派專職(zhí)人員看守,基(jī)本不占用人(rén)工費(fèi);

  • 05

    設備(bèi)啟動、停止十分迅速,隨用隨開,不受氣溫的影響。

適用範圍 Scope of application

垃圾、汙水廠(chǎng)等市政設施,以及(jí)製藥廠、油漆廠、塗料廠、皮革廠、石油化工、農藥廠、製藥廠、印刷廠(chǎng)、造紙廠、飼料加工廠等(děng)等工業場所。

UV光(guāng)解廢氣淨化設備適用範圍

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