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離子除臭設(shè)備

離子除臭設備

離子除臭設備是(shì)利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的汙染物作用,使汙染物分子在短的時間內發生分解,以達到降解汙染物(wù)的(de)目的的一(yī)種環保(bǎo)設備。
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  • 產品概述
  • 技(jì)術原理
  • 性能優勢
  • 適用範圍

產品(pǐn)概述 Product description

產品概述

離子除臭設備是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的(de)汙(wū)染物作用,使汙染物分子(zǐ)在(zài)短的時間內發生分解,以達到降解汙染物的目的的一種環保設(shè)備。




技術原理 technology principle

產品概(gài)述

  首先廢氣(qì)經均流板(bǎn)過濾棉進入設備時,由設備高壓穩定高頻放電,瞬間產生1.5萬伏特至2萬伏特高壓,擊(jī)穿廢氣。此階段中,長鏈、多鏈(liàn)廢氣分子由於鍵能較弱,約束力(lì)較小。很容易被擊穿化學鍵破裂,從而變成小分子化合物,此為第一階段淨化。

其次,隨廢氣進入設備的水分子(zǐ)、氧分子被高壓擊穿斷裂,生成強氧化基團羥(qiǎng)基、臭氧分子等。這些強氧化基團與廢氣分子充(chōng)分接觸氧化,加快反應進程。整(zhěng)個(gè)反應幹淨,能(néng)量利用率(lǜ)高,淨化效率非常(cháng)高。

等離子功能段可以激發汙(wū)染物能量,促(cù)使長鏈、多鏈汙染物(wù)分子的分子鍵斷裂重(chóng)組,使難處理的汙染(rǎn)物降解(jiě)為較易處理的低碳汙染(rǎn)物。








等離子體化學反應(yīng)過程 Plasma chemical reaction process 

產品概述

從等離子體反應過程可以看出,電(diàn)子先從電場獲得能量,通過激發或電離將能量轉移到汙(wū)染物分子中去,那些獲得能量的汙染(rǎn)物分子被激發,同時(shí)有部分分子被電離,從而(ér)成為活性基團。然(rán)後(hòu)這些活(huó)性(xìng)基團(tuán)與氧氣、活性基團與活性基團之間相互碰撞後生成穩(wěn)定產物和熱。

另外,高能電子也能被(bèi)鹵素和氧氣等電子親和力較強的物質俘獲,成為負離子。這類負離子具有很好(hǎo)的化學(xué)活性,在化學反應中起著重要的作用。






性能優勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻擋放電產生的低溫等離(lí)子體中,電(diàn)子能量高,幾乎可以和所有的惡(è)臭(chòu)氣體分(fèn)子作(zuò)用;

  • 02

    反應快,不受氣速限製,氣阻小(xiǎo),工藝成熟;

  • 03

    采用防腐蝕材料(liào),電極與廢氣不直接接觸,根本上解決了設備腐蝕問題;

  • 04

    隻需(xū)用電,操作簡單,無需派專職人員(yuán)看守,基本不占用人工費;

  • 05

    設備啟動、停止十(shí)分迅速,隨用隨開,不受(shòu)氣溫的影響。

適(shì)用範圍 Scope of application

垃圾、汙水廠(chǎng)等市政設施,以(yǐ)及製藥廠、油(yóu)漆廠、塗料廠、皮革廠、石油化工、農藥廠、製藥廠、印刷(shuā)廠、造紙廠、飼(sì)料加工廠等等工業(yè)場所。

UV光解廢氣淨化設備適(shì)用範圍

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