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等離子除臭裝置(zhì)

等離子除(chú)臭裝(zhuāng)置

等離子除臭裝置是利用這些高能(néng)電子、自由基等活性粒子和廢氣中的汙染物作用,使汙染物分子在(zài)短的時間內發生分解,以達到降解汙染物的目的的一種環保(bǎo)設備。
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  • 產品概述
  • 技術原理
  • 性能優勢
  • 適用範(fàn)圍

產品概述 Product description

產品概述

等離子除臭裝置(zhì)是利用這些高(gāo)能電子、自(zì)由基等活性粒(lì)子和廢(fèi)氣中的汙(wū)染物作用,使汙(wū)染物分(fèn)子在短的時間內發生分解,以達到降解汙染(rǎn)物的(de)目的的一(yī)種環保設備。




技術原理 technology principle

產(chǎn)品概述

  首先廢氣經均(jun1)流板過濾棉進入設備時,由設備高(gāo)壓穩定高頻放(fàng)電,瞬間產生1.5萬伏特至2萬伏特高壓,擊(jī)穿廢氣。此階段中,長鏈、多鏈廢氣分子由於鍵能較弱(ruò),約束力較小。很容易被擊穿(chuān)化學鍵破裂,從而變成小分(fèn)子化合物,此為第一階段淨化。

其次,隨廢氣進入設備的水分子、氧分子被高壓擊穿斷裂,生成強氧化基團羥基(jī)、臭(chòu)氧分子等。這些強氧化基團(tuán)與廢氣分子充分接觸氧化,加(jiā)快反應進程。整個反應幹淨,能量利用率(lǜ)高,淨化效率非常高。

等離子功能段(duàn)可以激發汙染物能量,促使長鏈、多鏈汙染物分子(zǐ)的分子鍵斷裂重組,使難處理的汙染物降解為較易處理的低碳汙染物。








等離子(zǐ)體化學反應過程 Plasma chemical reaction process 

產品概述

從等離子體反應過程可以看出,電子先從電場獲(huò)得能量,通過激(jī)發或電離將能量轉移到汙染物分子中去,那些獲得能量的汙染物分子被激發(fā),同時有部分分子被電離,從而成為活性基團。然後這些(xiē)活性基團與氧氣、活性基團與活性基團之間相互(hù)碰撞後生成穩定產物和(hé)熱。

另外,高能電子也能被鹵素和(hé)氧氣等電子親和力較強的物質俘獲,成為負離子。這類負離子具有很好的化學活(huó)性,在化學反應中起著重(chóng)要的作用。






性能優勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻擋放電產生的低溫(wēn)等離子體中(zhōng),電子(zǐ)能(néng)量高,幾乎可以和所有的惡臭氣體分子作用;

  • 02

    反應快,不受氣速限製,氣阻小,工(gōng)藝成熟(shú);

  • 03

    采用防腐蝕材料,電極與廢氣不直接接觸,根(gēn)本上解決了設備腐蝕問題;

  • 04

    隻需用電,操作簡單,無(wú)需派專職人(rén)員看守,基本不占用人工費;

  • 05

    設備啟動、停止(zhǐ)十分迅速,隨用隨開,不(bú)受(shòu)氣溫的影響。

適用範圍(wéi) Scope of application

垃圾、汙水廠(chǎng)等市政設施(shī),以及製(zhì)藥廠、油漆廠、塗料廠、皮革廠、石(shí)油化(huà)工、農藥廠、製藥廠、印刷廠、造紙(zhǐ)廠、飼料加工廠等等工業(yè)場所。

UV光解廢(fèi)氣淨化設備適用範圍

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