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等離子除(chú)臭(chòu)設備

等離(lí)子除臭設備

等離子除臭設備是利用這(zhè)些高能電子、自由基等活(huó)性粒子和廢(fèi)氣中的汙染物作用,使汙染物分子(zǐ)在短的時間(jiān)內發生分解,以達到降解汙染物的目的的一種環保(bǎo)設備。
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  • 產品概述
  • 技術原(yuán)理(lǐ)
  • 性能優(yōu)勢
  • 適用範(fàn)圍

產品概述 Product description

產品概述

等離子除臭設備是利用這些高能電子、自由基等活性(xìng)粒(lì)子和廢氣中的汙染物(wù)作用,使汙染物分子在(zài)短的(de)時間內(nèi)發生分(fèn)解,以達(dá)到降解汙染物的目的的一種環保設備。




技術原理 technology principle

產品概述

  首先廢氣經均流板過濾棉進入設備時,由設備高壓穩定高(gāo)頻放電,瞬間產生1.5萬伏特至2萬伏特高壓(yā),擊穿廢氣。此階段中,長鏈、多鏈(liàn)廢氣分子由於鍵(jiàn)能較弱,約束力較小。很容易被擊(jī)穿化學鍵破裂,從而變成小分子化合物,此為第一(yī)階段淨化。

其次,隨廢氣進入設備的水分子、氧分子被高壓擊穿斷(duàn)裂(liè),生成(chéng)強氧化基團羥基、臭氧分子等。這些強氧化基團(tuán)與(yǔ)廢氣分子充分接觸氧(yǎng)化,加快反(fǎn)應進程。整個反應幹淨,能量利用(yòng)率高,淨化效率非常高。

等離子功能段可以激(jī)發汙染物能量,促使長鏈、多鏈汙染物(wù)分子(zǐ)的分子鍵斷裂重組,使難處理的(de)汙染物降解為較易處理的低(dī)碳汙(wū)染物。








等離子體化學反應過程 Plasma chemical reaction process 

產品概述

從等離子(zǐ)體反應過程可以看出,電子先從電場獲得能量,通過激(jī)發或電離將能量轉移到(dào)汙染物分子中去,那些獲得能量的(de)汙染(rǎn)物分子被激發,同時有部分分子被電離(lí),從而成為活性基團。然後這些活性基團與氧氣、活性基團與活性基團之間相互碰撞(zhuàng)後生成穩定產物(wù)和(hé)熱。

另外,高能電子也能(néng)被鹵素和氧氣等電子親和力較強的物質俘獲,成為負離子。這類負離子具有很好的化學活性,在化學反應中(zhōng)起著重(chóng)要(yào)的作用(yòng)。






性能優勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻擋放電產生的低溫等離子體中,電子能量高(gāo),幾乎可(kě)以和所有的惡臭氣體分子作用;

  • 02

    反應快,不(bú)受氣速(sù)限製,氣阻小,工藝成熟;

  • 03

    采用防腐蝕材料(liào),電極與廢氣不直接接觸,根本上解決了設備腐蝕問題;

  • 04

    隻需用電,操(cāo)作簡單,無需派專職人員(yuán)看守(shǒu),基本不占用人工費;

  • 05

    設備啟動、停止十分迅速,隨用隨開,不受氣溫的影響。

適用範圍 Scope of application

垃圾、汙水廠等市政設施,以及製藥廠(chǎng)、油漆廠、塗料廠、皮革廠、石油(yóu)化工、農藥廠、製藥廠、印(yìn)刷(shuā)廠、造紙廠、飼料加工廠等等工業場(chǎng)所。

UV光(guāng)解廢氣淨化設備適用範圍

在線留(liú)言

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