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低溫等離子除臭裝置(zhì)

低(dī)溫等離子除臭裝置(zhì)

低溫等離子除(chú)臭裝置是利用這些高(gāo)能電子(zǐ)、自由基等活性粒子和廢氣中的汙(wū)染物作用,使汙染物分子在短的時間內(nèi)發生分解,以(yǐ)達到降解汙(wū)染物的目的的一種環保設備。

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  • 產品概述
  • 技術原理
  • 性能優勢
  • 適用範圍

產品概述 Product description

產品概述

低溫(wēn)等離子除臭設備是利(lì)用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的汙(wū)染(rǎn)物作用,使汙染物分子在短(duǎn)的時間內發生分解,以達(dá)到降解汙染物的目的的一種(zhǒng)環保(bǎo)設備(bèi)。




技術原理 technology principle

產品(pǐn)概述

  首(shǒu)先廢氣經均流板過濾棉進入設備時,由設備高壓穩定高頻放電(diàn),瞬間產生1.5萬伏特至2萬伏特高壓,擊穿廢氣(qì)。此階段中,長鏈、多鏈廢氣分子由於鍵(jiàn)能較弱,約(yuē)束(shù)力較(jiào)小(xiǎo)。很(hěn)容易被擊穿化學鍵破裂,從而變成小(xiǎo)分子(zǐ)化(huà)合物,此為第一階段淨(jìng)化。

其次,隨廢氣進入設備的水分子(zǐ)、氧分子被高壓擊穿斷裂,生成強氧化基團羥基、臭氧分子等。這些強氧化基團與廢氣(qì)分子充分接觸氧化,加快反應進程。整個反應幹淨,能量利用率高,淨化效率非常高(gāo)。

等離子功能段可以激發(fā)汙染物能量,促使長鏈、多鏈汙染物分子的分子鍵斷裂重組,使難處理的汙染物(wù)降解為較易處理(lǐ)的低碳汙染物。








等離子體化學反應過程 Plasma chemical reaction process 

產品概述

從等離子體反應過程可以看出(chū),電子先從電場獲得能量,通過激發或電離將能量(liàng)轉移到(dào)汙染物分子中去,那些獲得(dé)能量的汙染物分子被激發,同時有部分分子被電離,從而成為活性基團。然後這些活性基團與氧氣、活性基團與活性(xìng)基團之間相互碰撞後生成(chéng)穩定產物和熱。

另外,高能電子也能被鹵素和氧氣等電子親和力較強的物質俘獲,成為負離子。這類負離子具有(yǒu)很好的(de)化學活性,在(zài)化(huà)學反應中起著重要的作用(yòng)。






性能優勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻擋放電產生的低溫(wēn)等離(lí)子體中,電子能(néng)量高,幾乎可以和所有的惡臭氣體分子作用;

  • 02

    反應快,不受氣速限製,氣阻小,工藝成熟;

  • 03

    采用防腐蝕材料,電極與(yǔ)廢氣(qì)不(bú)直接接觸,根本(běn)上解決了設備腐蝕問題;

  • 04

    隻需用電,操作(zuò)簡單,無需派專職人員看守,基本(běn)不占用人工費;

  • 05

    設備啟動、停止十(shí)分迅速(sù),隨用隨開,不受氣溫的影響。

適(shì)用範圍 Scope of application

垃圾、汙(wū)水廠等市(shì)政設(shè)施,以及製藥廠、油漆廠、塗料廠、皮革廠、石油化工、農藥廠、製(zhì)藥廠、印刷廠、造紙廠、飼料加(jiā)工廠等等工業(yè)場所。

UV光解廢氣淨化設備適用範(fàn)圍

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