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離子除臭裝置

離子除臭裝置

離(lí)子除(chú)臭裝置是利用這些高能電子(zǐ)、自由基等活性粒子和廢氣中(zhōng)的汙染物作用,使汙染物分子在短的時間內發生分解,以達到降解汙染物的目的(de)的(de)一種環保設備。
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  • 產品概述
  • 技術(shù)原理
  • 性能優勢
  • 適用範圍

產品概述 Product description

產品概(gài)述

離子除臭裝置(zhì)是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的汙染物(wù)作用,使汙染物分子在短的時間內發生分(fèn)解,以達到(dào)降(jiàng)解(jiě)汙染物(wù)的目的的一種環保(bǎo)設備。




技術原(yuán)理 technology principle

產品概述

  首(shǒu)先廢氣經均流板過濾棉進入設備時,由設備(bèi)高(gāo)壓穩定高頻放電,瞬(shùn)間(jiān)產生1.5萬伏特(tè)至2萬伏特高壓,擊穿廢氣。此(cǐ)階段中,長鏈、多鏈廢氣(qì)分子由於鍵能較弱,約束力較小。很容易被擊穿化(huà)學鍵破裂,從而變成小分子化合物,此為第一階段淨化。

其次,隨廢氣進入設(shè)備的水(shuǐ)分子、氧分子被高壓擊(jī)穿斷裂,生成強氧化基(jī)團(tuán)羥(qiǎng)基、臭氧分子等。這些強氧化(huà)基團與廢氣分子充分接觸氧化,加快反應進程。整個反應幹淨,能量利用率高,淨化效率非常高(gāo)。

等離子功能段可以激發汙染物能量,促使長鏈、多(duō)鏈汙染物(wù)分子的分子(zǐ)鍵斷裂(liè)重(chóng)組,使難處理的汙染物(wù)降解為較易處理的低碳汙染物。








等離子體化學反應過程 Plasma chemical reaction process 

產品(pǐn)概述

從(cóng)等離子體反應過程可以看出,電子先(xiān)從電場獲(huò)得能量,通過激發或電離將能量轉移到汙染物分子中去,那些獲得能(néng)量的(de)汙染物分子被激發,同時有部分分子(zǐ)被電離,從而成(chéng)為活性基團。然後這(zhè)些活性基團與氧氣、活(huó)性基團與活性基團之(zhī)間相互碰撞後生成穩定產物和熱。

另外,高能電子也能被鹵素和氧氣等電子親和力較強的物質俘獲,成為(wéi)負離子。這類負離子具(jù)有很好的化學活性,在化學反應中起著重要的作用(yòng)。






性能優勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻擋放電產生的低溫等離子體中,電(diàn)子(zǐ)能量高,幾(jǐ)乎可以和所有的惡臭氣體分子作用;

  • 02

    反(fǎn)應快(kuài),不受氣速限製,氣阻小,工藝成熟(shú);

  • 03

    采用(yòng)防腐蝕材料,電極與廢氣不直接接(jiē)觸,根(gēn)本(běn)上解決了設備腐蝕問題;

  • 04

    隻需用電,操作簡單,無需派專職人(rén)員看守,基本不占(zhàn)用人工費;

  • 05

    設備啟動、停止十分迅速,隨用隨開,不受(shòu)氣溫的影響(xiǎng)。

適用範圍 Scope of application

垃圾、汙水(shuǐ)廠等市政設施(shī),以及製藥廠、油漆廠、塗料廠、皮革廠、石油化工(gōng)、農藥廠、製藥(yào)廠、印刷廠、造紙廠、飼料加工廠等等工業場所。

UV光解廢氣淨化設備適用(yòng)範圍

在線留(liú)言

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