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低溫等離子除臭裝置

低溫等離子除臭(chòu)裝置

低溫等離(lí)子除臭裝置是利用這些(xiē)高能電子、自(zì)由基等活性粒子和廢氣中的汙染物作用,使汙染物分子在短的時(shí)間內發生分解,以達(dá)到降解(jiě)汙染物的目的的(de)一種環保設備(bèi)。

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  • 產品概述
  • 技術原理
  • 性能優勢
  • 適用範圍

產品(pǐn)概述 Product description

產品概述

低溫等離子(zǐ)除臭設備是利(lì)用這些(xiē)高能電(diàn)子、自由基等活性粒子和廢氣中的汙染物作用,使汙染物分子在短的時間內(nèi)發生分解,以達到降解汙染物的目的的一種環保設備。




技術原理(lǐ) technology principle

產品概述

  首先廢氣經均(jun1)流板過濾棉進入設備時,由設備高壓穩(wěn)定高頻放電(diàn),瞬間產生(shēng)1.5萬伏特至2萬伏(fú)特高壓,擊穿廢(fèi)氣。此階段中,長鏈、多鏈廢氣(qì)分子由於鍵能較弱,約束力較小。很容易被擊穿化學鍵破裂,從而(ér)變(biàn)成小分子化合物,此為第一階段淨化。

其次,隨廢氣(qì)進入設備的水分子、氧分子被高壓擊(jī)穿斷裂,生成強氧化基團羥基、臭氧分子(zǐ)等。這些強氧化基團與廢氣分子充分接觸氧化,加(jiā)快反應進程。整個反應幹淨,能量(liàng)利用(yòng)率高,淨化效率非常高。

等離子功能(néng)段可以激發汙染物能(néng)量,促使長鏈、多鏈汙染物(wù)分子的分子鍵斷裂重(chóng)組,使難處理的汙(wū)染物降解為較易處理的低碳汙染物。








等離子(zǐ)體化學反應過程 Plasma chemical reaction process 

產品概述

從等離子體反(fǎn)應過程可以看出,電(diàn)子先從電場獲得能量,通過(guò)激發或電離將能(néng)量轉移到汙染物分子中去,那些獲得能量的汙染(rǎn)物分子被激發,同時有部(bù)分分子被電離,從而成為活性基團。然(rán)後這些活性基團與氧氣、活性基團與活性基團之間相互碰撞後生成穩定產物和熱。

另外,高(gāo)能電子也能被鹵素和氧氣等電子(zǐ)親和力較強(qiáng)的(de)物質俘獲(huò),成為負離子。這類負離子具有很好的化學活性,在化學反應中起著(zhe)重要的作用。






性能優勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻擋放(fàng)電產生的低(dī)溫等離子體(tǐ)中,電子能量高,幾(jǐ)乎(hū)可以和所有的(de)惡臭氣體分子作用;

  • 02

    反應快,不受氣速限製,氣阻小,工藝(yì)成(chéng)熟;

  • 03

    采用防腐(fǔ)蝕材料,電極與廢氣不直接接觸,根(gēn)本上解決了設(shè)備腐蝕問題;

  • 04

    隻需用(yòng)電,操作簡(jiǎn)單,無需派專職人員看守,基本不占用人工費;

  • 05

    設備啟動、停止(zhǐ)十分迅速,隨(suí)用隨開,不(bú)受氣溫的影響。

適用範圍 Scope of application

垃圾、汙水廠等市政設施(shī),以(yǐ)及製藥廠、油漆廠、塗(tú)料廠(chǎng)、皮革廠、石油化工、農藥(yào)廠、製藥廠、印刷廠、造紙廠、飼料加工廠等等工業場所。

UV光解廢氣淨化設備(bèi)適用範圍

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