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離子除臭裝置

離子除臭裝置

離子除臭裝置是利用(yòng)這些高能(néng)電子、自(zì)由基等(děng)活性粒子和廢氣中的汙(wū)染物作用,使汙染物(wù)分子在短的時間(jiān)內發生分解,以達到降解(jiě)汙染(rǎn)物的目的的一種環保設備(bèi)。
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  • 產品概述
  • 技術原理
  • 性(xìng)能優(yōu)勢
  • 適用範圍

產品概述 Product description

產品概述

離子(zǐ)除(chú)臭裝置是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的汙染物作用,使汙(wū)染物(wù)分子在短的時間內(nèi)發生分解,以達到降解汙染物(wù)的目的的一種環保設備。




技術(shù)原理 technology principle

產(chǎn)品概述

  首先廢氣經均(jun1)流(liú)板過濾棉進入設(shè)備時,由設備高(gāo)壓(yā)穩定高頻放電,瞬間產生1.5萬伏特至2萬伏(fú)特(tè)高壓,擊穿廢氣。此階段中,長鏈、多鏈廢氣分子由於鍵能較弱,約束力較小。很容(róng)易被擊穿(chuān)化學鍵破裂,從而變成小分子化合(hé)物,此為第一階段淨化。

其次,隨廢氣進入設備的水分子、氧分子被高壓擊穿斷裂,生成(chéng)強氧化基團羥基、臭氧分子等。這些(xiē)強氧化基團與廢氣分子(zǐ)充分接觸氧化,加快反應進程。整(zhěng)個反應幹淨,能量利用(yòng)率(lǜ)高,淨化(huà)效率非常高。

等離子功能段可以激發汙染物能量,促使長鏈、多鏈汙(wū)染物分子(zǐ)的分子鍵斷裂重組,使難(nán)處理的汙(wū)染物降(jiàng)解為較(jiào)易處理的低碳汙染物。








等離子體化學反應過(guò)程(chéng) Plasma chemical reaction process 

產品概述

從等離子體反應過程可(kě)以看出,電子(zǐ)先從電場獲得能量,通過激發或電離將能量轉移(yí)到汙染物分子中去,那些獲得能量的汙染物分子被(bèi)激發,同時有部分分子被(bèi)電離,從而成為活(huó)性基團。然後這些活(huó)性基團與氧氣、活性(xìng)基團與活性基團之(zhī)間(jiān)相互碰撞(zhuàng)後生成穩定產物和(hé)熱。

另外,高能電子也能被鹵素和氧氣等電子(zǐ)親和力較強的物質(zhì)俘獲,成(chéng)為負離子。這類負離子具有很好的(de)化學活性,在化(huà)學反應中起著重要(yào)的作用。






性能優勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻擋放電產生的低溫等離子(zǐ)體中,電子能量(liàng)高,幾乎可以和所有(yǒu)的惡臭氣體分子作用;

  • 02

    反應快,不受氣速限製,氣阻小,工(gōng)藝成熟;

  • 03

    采用防腐蝕材料,電極與廢氣不直接接觸,根(gēn)本上解決了(le)設備腐蝕問題;

  • 04

    隻需用電,操作簡(jiǎn)單,無需派專職人員看守,基本不(bú)占用人工費(fèi);

  • 05

    設備啟動、停止十分迅速,隨用隨開(kāi),不受氣溫的影響。

適用範圍 Scope of application

垃圾(jī)、汙水(shuǐ)廠等市政設施,以及製藥廠、油漆廠、塗料廠、皮革廠、石油化工、農藥廠、製藥廠、印刷廠、造紙廠、飼料加工(gōng)廠等等工業(yè)場所。

UV光解廢氣(qì)淨化設備適用範圍

在線留(liú)言

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