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低溫等離子除臭設備

低溫等離子(zǐ)除(chú)臭設備

低(dī)溫等離子除臭設備是(shì)利用這些高能(néng)電子、自由基等活(huó)性粒子和廢氣中的汙(wū)染物作用,使汙染物(wù)分子在短的時(shí)間內發生(shēng)分解,以達到降解汙染物的目的的一種環保設備。

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  • 產品概述
  • 技術原(yuán)理
  • 性能優勢
  • 適用範圍

產品概述 Product description

產品概述

低溫等離子(zǐ)除臭設備是利用這些高能電(diàn)子、自由基等活性粒子和廢氣中的汙染物作用,使汙染物(wù)分子在短的時(shí)間內發生分解,以達到降解汙(wū)染物的目的的(de)一種環保設備。



技術原(yuán)理 technology principle

產品(pǐn)概(gài)述(shù)

  首先廢(fèi)氣經均流板過濾棉進入設備時,由(yóu)設備高壓穩定高頻放電,瞬間產生1.5萬伏特至2萬伏特高壓,擊穿廢氣。此階(jiē)段中,長鏈、多(duō)鏈廢氣分子由於(yú)鍵能較弱,約束力較小。很(hěn)容易(yì)被擊穿化學鍵破(pò)裂,從而(ér)變成小分子化(huà)合物,此為第一階段淨化。

其次,隨廢氣進入設備的水分子、氧分子被高壓擊穿斷裂,生成(chéng)強氧化基團羥基、臭氧(yǎng)分子等。這些強氧化基團與廢氣分子充分接觸氧化,加快反應進程。整個反應幹淨,能量利用率高,淨化效(xiào)率非常高。

等離(lí)子(zǐ)功能段可以激發汙(wū)染物能量,促使長鏈、多鏈汙染物分子的(de)分子鍵斷裂重組,使(shǐ)難處理的汙染物降解為較易處理(lǐ)的低碳汙染物。








等離(lí)子體化學反應過程 Plasma chemical reaction process 

產品概述

從等離子(zǐ)體(tǐ)反應過程可以看出,電子先從電場獲得能量,通過(guò)激發(fā)或電離將能量轉移到汙染物分子中去,那些獲得(dé)能量的汙染物分子(zǐ)被激發,同時有(yǒu)部分分(fèn)子被電(diàn)離,從而成為活性基(jī)團(tuán)。然後這些活性(xìng)基團與氧氣、活性基團與活性基團之間相互碰撞(zhuàng)後生成(chéng)穩定(dìng)產物和熱。

另外,高能電子也能被鹵素和(hé)氧氣等電子親和力較強的物質俘獲,成(chéng)為負離(lí)子。這(zhè)類負離子(zǐ)具有很好的化學活性,在化學反應中起著(zhe)重要的作用。






性能優勢 Performance advantage

  • 01

    介質(zhì)阻擋放電產生的低溫等離子體(tǐ)中,電(diàn)子能量高,幾乎可以和所有的惡臭氣(qì)體(tǐ)分子作用;

  • 02

    反應快,不受(shòu)氣速限製,氣(qì)阻小,工藝(yì)成熟;

  • 03

    采用防腐蝕材料,電極與廢氣不直接接觸,根本上解決了設備(bèi)腐蝕問題;

  • 04

    隻需用(yòng)電,操作簡單,無需派專職人員看守(shǒu),基本不占用人工費;

  • 05

    設備啟動(dòng)、停止十分迅速,隨用隨開,不受(shòu)氣溫的影響。

適用範圍 Scope of application

垃圾、汙水廠等市政設施,以(yǐ)及製藥廠、油(yóu)漆廠、塗料廠、皮(pí)革廠、石油化工、農藥廠、製藥(yào)廠、印(yìn)刷廠、造紙廠、飼料加(jiā)工廠等等工業場所。

UV光解廢氣淨化(huà)設(shè)備適(shì)用範圍

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