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低溫等離（lí）子除臭設（shè）備

低溫（wēn）等離子除臭設備

低溫等離子除臭設備是利用這些（xiē）高能電（diàn）子、自由基等活性（xìng）粒子和廢氣中的汙染物作（zuò）用，使汙染物分（fèn）子在短的時間內發生分解，以達到降解汙（wū）染物的目的（de）的一種環保設備。

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產品概述
技術原理
性能優勢
適用範圍

產品（pǐn）概述 Product description

低溫等離子除臭設備是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的（de）汙染物作用，使汙染物分子在（zài）短的時間（jiān）內發生分解，以達（dá）到降解（jiě）汙染物的目的的一種環保設備。

技術原理 technology principle

　　首先（xiān）廢氣經均流板過濾棉進入設備時，由設備高壓穩定高頻放電，瞬間產生1.5萬伏特至2萬伏特高壓，擊穿廢氣。此階段中，長鏈、多鏈廢氣分子由於鍵能（néng）較弱，約束力較小。很容易被擊穿（chuān）化學鍵破裂，從而（ér）變成小分子化合物，此為第一（yī）階段淨（jìng）化。

其次，隨廢氣進入設備的水分子、氧分子被高壓擊穿斷裂，生成強氧（yǎng）化基團羥基、臭氧分子等。這些（xiē）強氧化基團與（yǔ）廢氣分子充分接（jiē）觸氧化，加快反應進程。整個反應幹（gàn）淨，能量利用率（lǜ）高，淨化（huà）效（xiào）率非常高。

等離子（zǐ）功（gōng）能段可以激發汙染物（wù）能（néng）量，促使長鏈、多鏈汙染物分子（zǐ）的分子鍵斷裂重組，使難處理的汙染物降解為較易處（chù）理的低碳汙染物。

等離子體化學反（fǎn）應（yīng）過程（chéng） Plasma chemical reaction process

從等離子體反應過程可以看出（chū），電子先從電場獲得能量，通過激發或電離將能量轉（zhuǎn）移到汙染（rǎn）物分子中去，那些獲得能量的（de）汙染物（wù）分子被激發，同時有部分分子被電離（lí），從而成為（wéi）活性基團。然後這些活性基團與氧氣、活性（xìng）基團與活性基團之間相互碰撞後生成穩定（dìng）產物和熱。

另外，高能電子也能被鹵素和氧氣等電子親和力較強的（de）物質俘獲，成為負離子。這類負離子具有很好的化學活性，在化學反應中起著重（chóng）要的作用。

性能優勢 Performance advantage

01

介質阻擋放電產生的低溫等（děng）離子體中，電子能（néng）量高，幾乎可以和所有的惡臭氣體分子（zǐ）作用;
02

反應快，不受氣速限製，氣（qì）阻小，工藝成熟；
03

采用防腐蝕材料，電極與廢氣（qì）不直接接觸，根本上解決了設備腐蝕問題（tí）；
04

隻需用（yòng）電，操作簡單，無需（xū）派專職人員看守，基本不占用人工（gōng）費；
05

設備啟（qǐ）動（dòng）、停（tíng）止十分迅速（sù），隨用隨開，不受氣溫的影響。

適用（yòng）範圍（wéi） Scope of application

垃圾、汙水廠等市政設（shè）施，以（yǐ）及製藥廠、油漆廠、塗（tú）料廠、皮革廠、石油化工、農藥廠、製藥廠、印刷（shuā）廠、造紙廠、飼料加工廠等等工業場所。

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