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等離子除臭裝置

等離子(zǐ)除(chú)臭裝置

等離子除(chú)臭裝置是利用這(zhè)些高能電子、自(zì)由基等活性粒子(zǐ)和廢氣中的汙染物作用,使汙染物分子在短的時(shí)間內發生分(fèn)解,以達到降解汙染物的目的的一種環保設備。
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  • 產品(pǐn)概(gài)述
  • 技術原理
  • 性能優勢
  • 適用範圍

產品概述 Product description

產品概述

等離子除臭裝置是利用這些高能電子(zǐ)、自由基等活性粒(lì)子和廢氣中的(de)汙染物作用,使汙染物分子在(zài)短的時間內發生分解,以達到降解汙染物的目的的一(yī)種環保設備。




技術原理 technology principle

產品概述

  首先廢氣經均流(liú)板過濾棉進入設備時,由設(shè)備高壓(yā)穩定高頻放電,瞬間產生1.5萬伏特至2萬伏特高壓,擊穿廢氣。此階段中,長鏈、多鏈廢氣分子(zǐ)由於鍵能較弱,約束(shù)力較小。很(hěn)容易被擊穿化學鍵破裂,從而變成小分子化合物,此為第一階段淨化。

其次,隨廢氣進入設備的水(shuǐ)分(fèn)子、氧分子被(bèi)高壓擊(jī)穿斷裂,生成強氧化基團羥基、臭(chòu)氧分子(zǐ)等。這些強(qiáng)氧化基(jī)團與廢氣分子充分(fèn)接觸氧化,加(jiā)快反應進程。整個反應幹淨,能量利用率高,淨化效率非常高。

等離子功能段可(kě)以激發汙染物能量,促使長鏈、多鏈汙染(rǎn)物(wù)分子的分子鍵斷裂(liè)重組,使難處理的(de)汙染物降解為較易處理(lǐ)的低碳(tàn)汙染(rǎn)物。








等離子體化學(xué)反應過(guò)程 Plasma chemical reaction process 

產品概述

從等離子體反應過(guò)程可以看(kàn)出,電子先從電場獲得能量,通過激發或電離將能量轉移到汙染物分子中去,那些獲得能量的汙染物分子被激發,同時有部分分子被電離,從(cóng)而(ér)成為活性基團。然後這(zhè)些活(huó)性基團與(yǔ)氧氣、活性基團(tuán)與(yǔ)活性基團之間相互碰撞後生成穩定產物和熱。

另外,高能電子也能被鹵(lǔ)素和氧氣等電子親和力較強的物質俘獲,成為負離子。這類負(fù)離子具(jù)有很好的化學活性,在化學反應(yīng)中起著重要的作用。






性能優勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻擋放電產生的低溫等離子體中,電子能量高,幾乎可以(yǐ)和所有的惡臭氣體分子作用;

  • 02

    反應快,不受(shòu)氣速限製,氣阻小,工藝(yì)成熟;

  • 03

    采用防腐蝕材料,電(diàn)極與廢氣不直接接觸,根本上(shàng)解決了設備腐蝕問題;

  • 04

    隻需用電,操作簡單,無需派專職人員看(kàn)守,基本不占(zhàn)用人工費(fèi);

  • 05

    設備啟動、停止十分迅速,隨(suí)用隨開,不受氣溫的(de)影響。

適用範圍(wéi) Scope of application

垃圾、汙水廠等市政設施(shī),以及製藥廠、油漆廠、塗料廠、皮革廠、石油化工、農藥廠、製(zhì)藥廠、印刷廠、造紙廠、飼料加工廠等等工業場所。

UV光解廢氣淨化設(shè)備適(shì)用範圍

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