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等離子除臭設備

等離子除臭設(shè)備

等離子除臭設備是利用(yòng)這些高能電子、自由基等活性(xìng)粒子和廢氣中(zhōng)的汙染物作用,使汙(wū)染物分子在短的時間(jiān)內發生分解(jiě),以達到降解汙(wū)染(rǎn)物的目的的一種環保設備。
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  • 產品(pǐn)概述
  • 技術原理
  • 性能優勢(shì)
  • 適用範圍

產品概述(shù) Product description

產品概述

等離子(zǐ)除臭設備(bèi)是利(lì)用這些高能電子、自(zì)由基等活性粒(lì)子和廢氣中的汙染物作(zuò)用,使汙染物分子在短(duǎn)的(de)時間內發生分解,以達到降解汙染物的目的的一種環保設備。




技術原理 technology principle

產品概述

  首先廢氣經均流板過濾棉進入設備時,由設備(bèi)高壓穩(wěn)定高頻(pín)放電,瞬間產生1.5萬伏特至2萬伏特高壓,擊穿(chuān)廢氣。此階段(duàn)中,長鏈、多鏈廢氣分子由於鍵能較弱,約束力較小。很容易被擊穿化學鍵(jiàn)破裂,從而變成小(xiǎo)分子化合物,此為第一(yī)階段淨化。

其次,隨廢氣進入設備的水(shuǐ)分子、氧分(fèn)子被高壓擊穿斷裂,生成強氧化基團羥基、臭氧分(fèn)子(zǐ)等。這些強氧化基團與廢氣分子充分接觸氧化(huà),加快反應進程。整個反應幹淨,能量利(lì)用率高,淨化效率非常高。

等離子功能段可以激發汙染(rǎn)物能量,促使長鏈、多鏈汙染物分子的分子鍵斷裂重組,使難處理(lǐ)的汙染物降解為較易處理的低碳汙染物。








等離子體化學反應過程 Plasma chemical reaction process 

產品概述(shù)

從等離子體反應過程(chéng)可以看出,電子先從電(diàn)場獲得能量(liàng),通過激發或(huò)電離將能量轉(zhuǎn)移到汙(wū)染物分子中去,那些獲得能量的汙染物分子被激發,同時有部分分子(zǐ)被電離,從而(ér)成為活性基團(tuán)。然後這些活性基團與氧氣、活性基團與活性(xìng)基團(tuán)之(zhī)間相互碰撞後生成穩定產物(wù)和熱。

另外(wài),高能電子也能被鹵素和氧氣等電子親和力較強的物質俘獲,成為(wéi)負離子。這類負離子具有很好的化(huà)學活(huó)性,在化學反應中起著重要的作用。






性(xìng)能優勢 Performance advantage

  • 01

    介質阻擋放(fàng)電產生的低溫等離子體中,電子能量高,幾乎可以和所有的惡臭氣(qì)體分子作用;

  • 02

    反應快,不受氣速限製,氣阻小,工藝成(chéng)熟;

  • 03

    采用(yòng)防腐蝕材料,電極與廢氣不直接接觸,根本上解決了設備腐蝕(shí)問題;

  • 04

    隻需用電,操作簡單,無需派(pài)專職人員看守,基本(běn)不占用(yòng)人(rén)工費;

  • 05

    設備啟動、停止十分迅速,隨用隨開,不(bú)受氣溫的影響。

適用範(fàn)圍 Scope of application

垃圾、汙水廠等市政(zhèng)設施,以及(jí)製藥(yào)廠、油漆廠、塗料廠、皮革廠、石(shí)油化工、農藥廠、製藥廠、印刷廠、造紙廠、飼料加工廠等等工業場所。

UV光解廢(fèi)氣淨化設備適用範圍

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